DRAM廠導入EUV技術,家登補

繼台積電、三星晶圓代工、英特爾等國際大廠在先進邏輯製程導入極紫外光(EUV)微影技術後,同樣面臨製程微縮難度不斷增高的DRAM廠也開始評估採用EUV技術量產。三星電子今年第四季將開始利用EUV技術生產1z奈米DRAM,SK海力士及美光預期會在1α奈米或1β奈米評估導入EUV技術。隨著EUV成為微影技術主流,法人看好EUV光罩盒供應商家登(3680)直接受惠。

家登5月受惠於8吋及12吋光罩載具出貨強勁,加上EUV光罩盒獲晶圓代工廠大單出貨放量,推升單月合併營收月增137.4%達2.99億元並創歷史新高,與去年同期相較成長163.4%,累計前5個月合併營收8.34億元,較去年同期成長41.2%。法人預估家登6月營收雖會回落,但第二季營收可望創下歷年同期新高,下半年營運會優於上半年。
家登第二季營運優於預期,主要關鍵在於EUV光罩盒出貨暢旺。由於先進製程採用EUV微影技術已是趨勢,在台積電第二季EUV技術7+奈米進入量產階段並獲華為海思訂單後,三星晶圓代工也採用EUV量產7奈米製程,英特爾預期2021年7奈米會首度導入EUV技術。而隨著製程持續推進至5奈米或3奈米後,EUV光罩層會明顯增加2~3倍以上,對EUV光罩盒需求亦會出現倍數成長。
另外,占全球半導體產能逾3成的DRAM,也開始逐步導入EUV技術。業者指出,DRAM市場供給過剩且價格跌至變動成本,DRAM廠雖然放緩產能擴充但無法讓價格明顯止跌,維持獲利的唯一方法就是微縮製程來降低單位生產成本。不過,DRAM製程向1z奈米或1α奈米製程推進的難度愈來愈高,隨著EUV量產技術獲得突破,或可有效降低DRAM成本。
三星預期在今年11月開始量產採用EUV技術的1z奈米DRAM,量產初期將與三星晶圓代工共享EUV設備,初期使用量雖不大,但卻等於宣示DRAM光罩微影技術會朝EUV方向發展。至於SK海力士及美光也已表明開始評估採用EUV技術,業界預期將可能在1α奈米或1β奈米世代開始導入。
總體來看,在邏輯IC及DRAM的先進製程開始採用EUV技術後,對EUV光罩盒需求在明、後兩年都會呈現倍數成長,由於全球通過艾司摩爾(ASML)認證的光罩盒供應商只有美商英特格(Entegris)及台灣家登等兩家業者。法人認為,家登EUV光罩盒生產線位於台灣,可坐收地利之便就近提供協助,可望成為最大受惠者。(新聞來源:工商時報─涂志豪/台北報導)
台積電:台灣積體電路製造股份有限公司,簡稱台積電或台積,英文簡寫「TSMC」。成立於1987年,是全球第一家,也是全球最大的專業積體電路製造服務(晶圓代工)公司。2011年營收145.33億美元,晶圓代工市佔率48.8%,為全球第一。 ...更多

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