「痕與恆」:繪畫裡的時間 彼得‧辛莫曼 與 基斯‧古祖瓦德 雙個展

展覽介紹 | Exhibition

我們能認識什麼?我們如何得知世界是這般?何謂創作、何謂繪畫? 路由藝術將於九月展出「痕與恆:繪畫裡的時間」─彼得‧辛莫曼(Peter Zimmermann) 與 基斯‧古祖瓦德(Kees Goudzwaard) 雙個展,透過兩位歐洲抽象巨匠的作品,拚貼個體、思潮與藝術的故事,拾掇起20 世紀50 年代的知識論反省、80 年代圖像轉向、90 年代繪畫與新媒體競奪意義,乃至千禧年初繪畫回歸現象的時間碎片,觀看兩位創作者如何採樣、挪用、再現,在存取時間和意義的嘗試路徑中,爭奪繪畫者的身分、創作的意義,以及繪畫的樂趣。

一張一弛,視覺語言的相映

先後出生於1950 年代的德國藝術家彼得‧辛莫曼Peter Zimmermann (1956)和荷蘭藝術家基斯‧古祖瓦德Kees Goudzwaard (1958)的不同,無疑是展覽中精采的對照:辛莫曼跨步未來,創作設色妍麗、肌理豐富的環氧樹脂繪畫,以螢幕光電般的亮澤,誘引感官震動,讓人的主體性與機械科技於焉反思重合;而古祖瓦德則滑步幾世紀,以平滑、缺乏質地,低限節制的美感經驗,訴諸沉默的情感表達,細細編制錯視、風景、靜物、現代主義、乃至民藝等融合脈絡,輕巧的取消了過去與現在的藝術衝突。兩者一放一斂,乍看悖反的視覺語言,卻照亮不無相似的意義反思與關照。

取消作者痕跡,為圖像奪回意義的自由

辛莫曼與古祖瓦德的繪畫,皆為抽象,卻與現實幾乎沒有距離:前者忠實地描繪了由Photoshop 濾鏡處理至難辨原貌的數位影像,將之提純、融合為綻放靈光的創作;後者收集、安排、拼貼,耐心地一步步建構紙模,再不憚繁瑣的描摹於畫布上 ─ 兩人皆切割了構思與繪畫的當下,抵禦故事內容、事件或符號,在彷彿取消創作者身分的過程中,將時間轉為抽象的實體, 逼使觀者意識到今日圖像起源的複雜性,重新認識繪畫所創造的美學成果,反而更引動觀者的感性與智性探索。兩人從未公開作品的原型(數位影像或紙模),正體現他們對「作品的溝通能力」的執著,經年累月的打磨方法論,精巧的融合衝突、成就獨有的結構與個性,創造跳脫歷史框架的自由與繪畫的機會。

藝涯四十載,創造自己的語言

他們的選擇於二十一世紀開花結果。如古祖瓦德一筆一畫將暫時性的紙模透過不同塗層鉅細靡遺地轉譯成永恆的油畫、如辛莫曼反覆調校各層形狀、明度、彩度,使數位影像再現於環氧樹脂畫──過程艱辛、漫長,所得亦深刻動人:辛莫曼的作品穿梭於物性與自覺、現在與未來的疆界;古祖瓦德則以抽象模型的寫實再現融合了過去與現在,完成了抽象與寫實的翻轉。他們已成為不容置疑的當代藝術大師:辛莫曼的作品已在威尼斯雙年展展出,並由龐畢度中心、紐約MoMA 等機構典藏;基斯則於比利時根特美術館、巴黎美術學院等地辦展,許多作品亦為德國杜塞爾多夫藝術宮博物館等機構收藏。

開幕茶會 | 2020年9月11日(五) 15:00-17:00

Opening | September 11th (Fri), 2020 15:00-17:00

(蘇松濤報導)

「痕與恆」:繪畫裡的時間 彼得‧辛莫曼 與 基斯‧古祖瓦德 雙個展
圖1:Left|左圖:Peter Zimmermann at his studio in Cologne around 1986|約1986 年時辛莫曼於科隆工作室;Right|右圖:Kees Goudzwaard creating in his studio in early 2000|約2000 年古祖瓦德於工作室

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