Face ID技術新突破 iPhone 17有望迎接「全螢幕」到來

為了確保臉部辨識技術的高精準，一直以來蘋果（Apple）不得已讓螢幕頂端出現黑色區塊，以利放置Face ID的必要元件。不過稍早有消息指稱，蘋果似乎在螢幕下Face ID技術取得突破，同時獲得專利。記者／劉閔

為了確保臉部辨識技術的高精準，一直以來蘋果（Apple）不得已讓螢幕頂端出現黑色區塊，以利放置Face ID的必要元件。不過稍早有消息指稱，蘋果似乎在螢幕下Face ID技術取得突破，同時獲得專利。而這似乎意味著，未來iPhone或許不需要任何瀏海或開孔了。

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Face ID技術新突破 iPhone 17有望迎接「全螢幕」到來
iPhone 17有望出現「全螢幕」Face ID 技術。（圖／取自蘋果官網）[/caption]

專利解決螢幕下整合問題

據了解，想實現螢幕下Face ID整合技術的關鍵，最大問題在於紅外線光雖可以穿透顯示螢幕，但傳輸效率極低、且影響臉部辨識的速度和準確度。不過蘋果最近獲得的關鍵專利顯示，正是針對這一限制得到解決方案。

蘋果在專利中提到，透過選擇性移除螢幕上特定區域的RGB子像素，並利用周圍像素進行顯示補償，擴大Face ID紅外線光的傳輸區域，並在不影響顯示品質的前提下，創造出紅外線的穿透傳輸通道。據悉此專利技術還包含觸控層的改良設計，維持了觸控精準度。

過去曾多次傳言蘋果計畫在新款iPhone引入螢幕下Face ID技術，但最終在iPhone 15和iPhone 16都並未實現。且由於蘋果新專利並不一定會實裝在產品上，因此今年預計登場的iPhone 17系列是否有望採用，目前仍無從而知，不過果粉或許可保持期待。

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