國美館「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」7/27隆重登場

【大成報記者吳非羽/臺中報導】 文化部所屬國立臺灣美術館主辦「中華民國國際版畫雙年展」，自1983年開始，已經歷41年的歲月，今年邁入第二十一屆、是全球歷史最悠久的國際版畫展之一，持續扮演促進國際藝術文化交流、推廣版畫藝術及鼓勵版畫創作的角色。27日於國美館舉辦頒獎典禮暨開幕式，文化部政務次長李靜慧、國美館長陳貺怡、評審委員、及得獎藝術家與入選藝術家出席共襄盛舉。

國美館表示，「中華民國國際版畫雙年展」在長期不懈耕耘之下，獲得國際版畫藝術家的支持，徵件期間共收到來自82個國家、1215位藝術家報名參賽；經初審及複審兩階段評審團審慎討論與篩選，遴選出共計38國163件展出作品，包含金、銀、銅牌獎各1名、評審團特別獎2名、優選及佳作各5名，共計15件得獎作品脫穎而出。

而這屆參賽作品，不論是質量、技法、形式、風格，皆展現多元並蓄的精采風貌。榮獲金牌獎的是來自日本的安河内裕也，作品〈在2022那年之後－囚犯之九〉，對於人類為了發展文明與追求繁榮，同時因爭奪領土和資源而陷入持續的衝突與戰爭，反思人類的歷史與本質。

銀牌獎得主帕蒂朋．蘇潘朋是泰國籍，作品〈記憶中的事物與痕跡之十一〉，呈現對自然力量的敬畏和對生命逝去的哀思，也暗示重建與再生的可能。

銅牌獎則是由來自日本的武藤正悟獲得。他的作品〈結界〉象徵著現今處於寒冬中的烏克蘭人民、正在期待春天的到來；藉由暖色調畫面的呈現，寓意春天終將降臨的願景。

初審評審團代表國立清華大學藝術與設計學系兼任教授呂燕卿指出，這屆優秀版畫藝術家的作品，多聚焦熟練開創版畫的多元媒材技法、建構自我美學無限強度。不但彰顯各國文化特色與版畫創作能量，也可由看出作品的獨特性哲理。

而初審委員國立臺南大學藝術學院長高實珩，也在評審感言中述及關於這屆作品的主題趨勢。他提到，有一部分作品涉及戰爭陰影與恐懼的內涵，藝術家們透過作品反映現實中的政治衝突與矛盾，把內在不安的狀態，以多樣性的藝術語彙呈現出來；點出藝術家們的選題，反映出在全球疫情及烏克蘭戰爭之後、大眾的一些反思與焦點，以及對未來的希望與願景。

複審委員西班牙巴斯克大學版畫系教授大衛．阿特戈伊帝亞（David ARTEAGOITIA）則分享，版畫創作並非單純只是在某個表面上留下刻痕、然後將其複製。它更是一種既細緻又狂暴的力量，像是一道傷疤、封存住過去行為的記憶；「它要提醒我們的，不僅是已經發生的，更是所有即將發生的。」

「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」即日起至10月13日，於國美館201-202展覽室展出。

此外，為進一步探討這屆得獎作品的藝術內涵，讓大眾對版畫創作有更多的認識，於28日規劃一場在國美館演講廳舉辦的「藝術家座談會」，邀請國內版畫領域專家學者及這屆得獎藝術家，分享版畫創作理念、討論國際版畫藝術發展的現況。更多活動詳情，歡迎至國美館網站查詢（http://www.ntmofa.gov.tw）。