保護穿透式電子顯微鏡下樣品 找到新技術

愛爾蘭都柏林三一學院的物理教授Lewys Jones所領導的研究團隊，使用結合了「光束消隱器」的專利技術，成功消除了穿透式電子顯微鏡對於損壞高敏感材料的隱憂。

編譯／高晟鈞

愛爾蘭都柏林三一學院的物理教授Lewys Jones所領導的研究團隊，使用結合了「光束消隱器」的專利技術，成功消除了穿透式電子顯微鏡對於損壞高敏感材料的隱憂，以更少的電子建立相同品質甚至更好的成像。

穿透式電子顯微鏡

穿透式電子顯微鏡（Scanning transmission electron microscopes, STEMS）是利用高能量電子束來對樣品進行成像，不僅可以獲得出色的圖像解析度，也能得到晶體結構特性、結晶取向、產生元素圖等等。這些方式都可以精確地定位至奈米等級來進行分析。

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對於STEM來說，電子會落在樣品上，停留固定的預設時間並累積訊號，直到每個像素所謂的「停留時間」過去。這種方法很簡單，但存在使用過度破壞性輻射的風險，導致樣品變形或破壞，尤其對於像是容易損壞的生物組織來說。

「從輻射角度來看，電子相對溫和；然而，當它們以75%光速打在生物樣品上，又是另一回事了。」第一作者Jon Peters說道。

結合兩種先進技術

研究團隊所開發的新方法，不同於以往在固定時間測量檢測到的「事件數量」，而是利用打在樣品不同部份上後散射的電子來建構圖像（事件），並測量一定事件數量所需要的不同時間。

本質上來說，新方法意謂著你可以在成像效率達到峰值時「關閉電子束」，以更少的電子，建立相同或是更好品質的影像。

對此，研究團隊開發的Tempo STEM專利技術，將穿透式電子顯微鏡結合高科技光束消隱器，一旦樣品中每個測量點達到所需的精度，即可關閉光束，實現真正意義上的「奈米響應」，並避免對於樣品造成不必要的損壞。

資料來源:Phys.org

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