不塞車的電流公路 輝碲鉍礦晶體薄膜創電子移動率新紀錄



不塞車的電流公路 輝碲鉍礦晶體薄膜創電子移動率新紀錄


由麻省理工學院、美國陸軍研究實驗室和其他物理學家組成的團隊,透過盡量減少晶體結構缺陷的方式生長出了純度超高,近乎完美的薄膜材料。在輝碲鉍礦晶體薄膜實現了破紀錄的電子移動率。


編譯/高晟鈞




由麻省理工學院、美國陸軍研究實驗室和其他物理學家組成的團隊,透過盡量減少晶體結構缺陷的方式生長出了純度超高,近乎完美的薄膜材料。在輝碲鉍礦晶體薄膜實現了破紀錄的電子移動率。





不塞車的電流公路 輝碲鉍礦晶體薄膜創電子移動率新紀錄
輝碲鉍礦晶體薄膜有望成為未來電子產品一種相當有前景的材料。(圖/截取自Phys.org)



電子移動率




電子移動率(Electron mobility)是描述金屬與半導體內部電子,在電場作用下移動速度的物理量。在半導體中,人們通常用「載子遷移率」來描述半導體內部電洞與電子運動速度的快慢。




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當材料的電子移動率越高,就意謂著更好的導電性能。具有高電子移動率的材料,就像是沒有堵塞、紅綠燈的高速公路,電子能輕易在材料內部中穿過,是科學家得以開發夢寐以求永續電子設備的關鍵。




輝碲鉍礦




輝碲鉍礦(Tetradymite),源自希臘語的「Tetra」與「Dymite」,分別代表「四」與「雙胞胎」的意思。這兩個術語很好地描述了輝碲鉍礦的晶體結構:由鉍、銻碲、硫和硒四個為一組所組成的「孿生」菱形晶體。自1950年代開始,輝碲鉍礦便被發現具有優秀的熱電性能,此外,其在微觀、奈米級表面內的電子相互作用更加明顯。




為了生長純晶體薄膜,研究人員採用了「分子束磊晶」的技術,精確地控制溫度將分子沉積在基材上,凝結並緩慢堆積。透過控制沉積分子的時間與類型,科學家可以得到精確、幾乎沒有任何缺陷的超薄晶體薄膜。




輝碲鉍礦晶體薄膜




團隊所生長的輝碲鉍礦晶體薄膜,每層厚度約為100奈米。研究團隊利用「量子振盪」來測試薄膜的電子移動率。倘若量子振盪存在,即意謂著材料的電阻可以改變,並由此推斷電子可以輕鬆地在材料內流動。經測試,研究團隊估計輝碲鉍礦晶體薄膜的電子移動率達到了驚人的10,000cm2/Vs,是迄今為止所有輝碲鉍礦晶體薄膜中最高的電子移動率。




輝碲鉍礦晶體薄膜有望成為未來電子產品一種相當有前景的材料,包括將廢熱轉化為電能的熱電設備、自旋電子裝置等等。




資料來源:Phys.org



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